应用范围:太阳能硅片、半导体等
主要特点:
■2500片(156*156)/小时超大产能。
■采用第三代,全面完善的防酸防腐措施,保护到机器每一个角落。
■全自动补液技术。
■的硅片干燥前处理技术。
■成熟的硅片清洗工艺,多种先进技术集于一身。
■彩色大屏幕人机界面操作,方便参数设置及多工艺方式转换
硅片超声波清洗机
站内搜索
|
硅片超声波清洗机
详细信息 应用范围:太阳能硅片、半导体等
主要特点: ■2500片(156*156)/小时超大产能。 ■采用第三代,全面完善的防酸防腐措施,保护到机器每一个角落。 ■全自动补液技术。 ■的硅片干燥前处理技术。 ■成熟的硅片清洗工艺,多种先进技术集于一身。 ■彩色大屏幕人机界面操作,方便参数设置及多工艺方式转换 |